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一文帶你詳細了解粒徑分析儀的兩大主要測量技術

點擊次數:314次  發布時間:2021-09-13

    粒徑分析儀是一種測量、呈現和報告特定粒子或者液滴群粒度分布的分析儀。粒度分析儀在個別以及方法特定邊界條件下,按照特定的測量方法(例如:圖像分析、激光背向散射或激光衍射)運行。由于微觀晶體粒度較小,因此通常需要使用更加復雜的分析設備。常規粒度測量方法包括圖像分析、激光背向散射、激光衍射或篩分分析法。所有粒度分析儀根據其特定的測量方法為同一個粒子提供不同值。粒度分析儀在工藝開發以及粒子系統質量控制方面起到重要作用,可建立起高效的工藝和取得高質量的最終產品。

    (1)聚焦光束反射測量技術:

    當過程中存在顆粒時,使用采用FBRM技術的探頭式儀器,可實時進行粒徑與粒數分析。獲取關于顆粒粒徑、粒數與形狀的實時測量結果:

    ·無需取樣或旁通回路,可直接在工藝中測量;

    ·研究顆粒的特定區間(細粒與粗粒);

    ·研究不透明或半透明漿體與乳液中的顆粒;

    ·直接觀察工藝變化對顆粒產生的影響;

    ·可監測大多數工藝濃度條件下的0.5-1000μm顆粒。

    (2)顆粒錄影顯微鏡技術:

    PVM在當前工藝條件下,通過高分辨率的錄影顯微鏡,實時原位監測顆粒,氣泡,以及液滴。

    粒徑分析儀的注意事項:

    (1)探頭插入角度最好是30°-60°,與顆粒流動方向一致,確保有代表性的顆粒經過探頭窗口,消除盲區可能性,降低探頭粘附可能性。

    (2)識別和避免窗口粘附,避免粘附的方法,確保最優的探頭方向–流體沖刷探頭窗口,在軟件中始終選擇“stuckparticlecorrection,拔出探頭,清洗探頭。

    (3)選擇正確的平滑度,過度平滑,導致不能呈現原始數據的趨勢。

    (4)選擇好的弦長計算模型。
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